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CIF生產型等離子清洗機 CIF 推出的中試生產型等離子清洗機是為研發型客戶和工業級客 戶而設計的等離子體表面處理設備。配置豐富， 且真空腔體里可分層， 適合大多數生產場景清洗，活化、刻蝕等應用。設備可在嚴苛環境下 穩定運行，產品性能穩定，樣品處理重復性、一致性好。

CIF 推出的新一代科研型等離子清洗設備，合理的結構設計，優化的腔體尺寸，使得處理樣品更大，適用范圍更廣。CIF等離子清洗機F系列性能穩定，操作簡單方便，易維護。

等離子灰化儀又稱等離子有機質去除儀用于煤與生物質樣品的低溫灰化，SEM&TEM中有機樣品刻蝕，塑料品的表面處理以及有機材料的微觀灰化。

CIF Flash-Evac系列閃蒸成膜儀基于“快速溶劑揮發誘導成膜”原理研發生產的*薄膜制備設備，通過真空環境加速溶劑蒸發，驅動溶質（如有機小分子、聚合物、金屬鹵化物等）快速自組裝形成均勻納米薄膜。設備具備智能控制、高效成膜與廣泛兼容等優勢，廣泛應用于鈣鈦礦太陽能電池、OLED、柔性電子與傳感等前沿領域。

CIF離子濺射儀是一款專為貴金屬及合金材料鍍膜研制的高精度設備，集*控制技術與人性化設計于一體，可實現精準、高效且穩定的濺射鍍膜工藝。廣泛適用于科研實驗與精密制造領域，為用戶提供高質量、一致性高的鍍膜效果。

CIF推出全新一代 CPC-10系列實驗室型等離子體清洗設備， 改變傳統等離子體清洗設備設計理念。具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積， 使用成本低， 性價比高， 處理快速高效， 特別適合于大學， 科研院所和光電企業實驗室小批量中試生產。

CIF推出全新一代 CPC-G系列實驗室型等離子體清洗設備， 改變傳統等離子體清洗設備設計理念。CIF實驗室型等離子清洗機具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積， 使用成本低， 性價比高， 處理快速高效， 特別適合于大學， 科研院所和光電企業實驗室小批量中試生產。

CIF 推出的新一代科研型等離子清洗設備，合理的結構設計，優化的腔體尺寸，使得處理樣品更大，適用范圍更廣。 CIF實驗室型等離子清洗機CPC-F系列性能穩定，操作簡單方便，易維護。